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三星目标5年内超越台积电,承认4nm工艺目前落后两年

日期:2023-05-05 来源:IT之家 评论:0
标签: 三星 台积电
  IT之家5月4日消息,据Hankyung报道,三星半导体今天早些时候在KAIST(韩国科学技术院)举行了一场演讲,三星设备解决方案部门总裁Kye Hyun Kyung提出了三星半导体将赶上竞争对手台积电的未来愿景。

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▲图源Hankyung
  Kye Hyun Kyung承认三星的代工技术“落后于台积电”。他解释说,三星的4nm技术比台积电落后大约两年,而其3nm工艺则比台积电落后大约一年。
  不过,Kye Hyun Kyung也表示,但等到2nm就会发生变化,并大胆预测:“我们可以在五年内超越台积电。”
  三星可能在未来五年内跑赢台积电的想法,源于三星打算从3nm制造工艺开始使用Gate All Around(GAA)技术。相比之下,台积电在达到200万产量之前不会使用GAA。
  GAA是一种生产工艺,可以使三星生产出比台积电目前使用的工艺更小(45%)、能耗更低(50%)的芯片。Kye Hyun Kyung称“客户对三星电子的3nm GAA工艺的反映很好”。
  Kye Hyun Kyung还表示,三星预计存储半导体在开发AI服务器方面将变得更加重要,并超过英伟达GPU,并称三星将“确保以存储器半导体为中心的超级计算机能够在2028年问世”。
  据IT之家此前报道,近期三星称,其4nm芯片制程良率已改善、接近5nm的水准,下一代4nm制程将提供更高的良率。
  业内消息人士透露,美国芯片巨头AMD公司已经选择了三星电子作为其4nm处理器的合作伙伴。此外,谷歌公司也将委托三星电子生产其Pixel 8智能手机的Tensor 3芯片,采用三星电子第三代4nm工艺节点。
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